Fasförändring energilagringsmaterial dnq
In summary, Novolak/DNQ photoresist is positive-tone, non-chemically amplified, and aqueous developable resist. It had been used as the major imaging material to …
Lösningar för lagring av solenergi förändrar vårt sätt att närma oss energiförbrukning. Med den växande efterfrågan på ren och hållbar kraft är solenergilagringssystem en nyckelkomponent i att bygga motståndskraftiga mikronät. Dessa system tillåter användare att lagra överskott av solenergi under soliga dagar och använda den under molniga perioder eller på natten, vilket säkerställer en kontinuerlig och pålitlig energiförsörjning. Dessutom minskar dessa lagringslösningar beroendet av nätet, förbättrar energieffektiviteten och bidrar till en grönare framtid.
På Solar Energy är vi specialiserade på att tillhandahålla högkvalitativa solenergilagringsprodukter som integreras sömlöst med solenergisystem. Våra lösningar är designade för att erbjuda maximal lagringskapacitet, snabba laddningstider och lång livslängd, vilket gör dem idealiska för både bostäder och kommersiella applikationer. Genom att optimera energianvändningen hjälper våra produkter dig att spara på elkostnader och minska ditt koldioxidavtryck.
För mer information om hur solenergilagring kan gynna dina energibehov, kontakta oss gärna på [email protected]. Vårt team av experter är redo att hjälpa dig att hitta den perfekta lösningen för dina specifika krav.
What is novolak/DNQ photoresist?
In summary, Novolak/DNQ photoresist is positive-tone, non-chemically amplified, and aqueous developable resist. It had been used as the major imaging material to form patterns with dimensions from a few hundred nanometers to 2 microns. Many Novolak/DNQ products are still being used in different semiconductor processes nowadays.
What is the function of DNQ in photoresist film?
The DNQ functions as a dissolution inhibitor. During the masking/patterning process, portions of the photoresist film are exposed to light while others remain unexposed. In the unexposed regions of the resist film, the DNQ acts as a dissolution inhibitor and the resist remains insoluble in the aqueous base developer.
Is DNQ a broad band photoresist?
The absorption band for DNQ covers quite a broad UV range and therefore the novolak/DNQ formulation can be used for g-line, I-line, or broad band photoresists. Figure 2. Absorption spectra for DNQ and Novolak. In summary, Novolak/DNQ photoresist is positive-tone, non-chemically amplified, and aqueous developable resist.
What is DNQ reaction upon exposure?
DNQ reaction upon exposure is also shown in the figure. For the Novolak/DNQ formulation, a large solubility contrast between exposed and dark area is the key for the success for the material. Figure 1. Phenol-formaldehyde polymer (novolak) and Diazonnaphthaquinone (DNQ) reaction upon exposure.
How does DNQ react with water?
In the unexposed regions of the resist film, the DNQ acts as a dissolution inhibitor and the resist remains insoluble in the aqueous base developer. In the exposed regions, the DNQ forms a ketene, which, in turn, reacts with ambient water to form a base soluble indene carboxylic acid.
What is novolak & DNQ reaction?
Figure 1. Phenol-formaldehyde polymer (novolak) and Diazonnaphthaquinone (DNQ) reaction upon exposure. The etch resistance from novolak/DNQ was excellent and it had been a key attribute for the success of the material.
